第1481章 追赶之路,任重道远

搞科研,是一件长期高投入,却不一定能见到回报的项目。

那时候,我们的经济又相对落后,连建设一个特区,都要依靠举国之力,何况是光刻机这样高投入,却一直落后的、看不到“钱景”的研发项目了。

在当时,许多从事光刻机研究的公司,最终因为没有资金支持而破产。一些院所,同样因为缺乏资金的支持,而停止了光刻机的研发。

还有一个原因是,为了摧毁种花家的自主技术研发之路,西方那些势力跟后来一样。

最先进的技术不给你,但只要你突破了哪个层次的技术,他们就会对你放开哪个层级的技术,用“倾销”的手段,以更低的成本打压、摧毁你,刚刚萌芽的产业。

随着他们的先进技术和设备进入国内,这让我们自主创新的意识受到了冲击,造不如买的思想成为主流。

直接购买和使用国外成熟的技术,应用到我们要开发的产品上,比自己研发制造要高效得多。

各地引进了大量的,国外半导体设备和生产线,大量企业逐渐放弃了光刻机方面的科研。

巨大的冲击,致使我们的光刻技术和产业化,停滞不前。同时,也放弃了电子工业的自主攻关,诸如光刻机等科技计划被迫取消。

直到本世纪的最后一年,如同海湾战争打醒了我们一样,一场科索沃战争,再次让我们惊醒。

以鹰酱为首的北约,用电子战瘫痪了南联盟所有的网络通信系统,令种花家极为震惊。

有关部门多次召开研讨会议,讨论一旦鹰酱用这种方式针对我们,国家的信息安全该如何保证。

于是,踏入二十一世纪之后,光刻机技术,再次被重视了起来。但此时,已经落后人家二十多年了。

不过,我们还是下了很大的决心,哪怕是落后一百年,也要干。用当时的话来说就是“现在做这个东西,难度不亚于生产大飞机,影响力不低于当初研究原子弹”。

于是,我们再次从193纳米起步,110纳米、90纳米......

直至2017年,科学院光学精密机械与物理研究所,牵头研发的“极紫外光刻关键技术”通过验收。

2018年科学院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,还可用于制造10纳米级别的芯片。